Retention characteristics on (Bi,La)4Ti3O12 films on Si(100) substrates using LaAlO3 buffer layers

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Retention characteristics on (Bi,La)₄Ti₃O₁₂ films on Si(100) substrates using LaAlO₃ buffer layers

著者

和文:	B-E.Park, H.Ishiwara.
英文:	B-E.Park, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	15th Intern. Sympo. on Integrated Ferroelectrics, Colorado Springs

巻, 号, ページ

No. 10.3.10-P

出版年月

2003年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: