A novel chemical solution deposition method suitable for high-yield fabrication of 50-nm-thick SrBi2Ta2O9 capacitors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A novel chemical solution deposition method suitable for high-yield fabrication of 50-nm-thick SrBi₂Ta₂O₉ capacitors

著者

和文:	Y.Kawashima, H.Ishiwara.
英文:	Y.Kawashima, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Intern. Conf. on Solid State Devices and Materials

巻, 号, ページ

No. B-1-5

出版年月

2003年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: