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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Effect of Post Metallization Annealing for La2O3 Gate Thin Films on Electrical Characteristics 
著者
和文: A.Kuriyama, S.Ohmi, K.Tsutusi, H.Iwai.  
英文: A.Kuriyama, S.Ohmi, K.Tsutusi, H.Iwai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:204^th^ ECS Meeting 
巻, 号, ページ         pp. Abs.564
出版年月 2003年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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