Estimation of emission efficiency for laser-produced EUV-plasmas

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Estimation of emission efficiency for laser-produced EUV-plasmas

著者

和文:	T.Kawamura, A.Sunahara, K.Gamada, K.Fujima, F.Koike, H.Furukawa, T.Nishikawa, A.Sasaki, T.Kagawa, R.More, T.Kato, M.Murakami, V.Zhakhovskii, H.Tanuma, T.Fujimoto, Y.Shimada, M.Yamaura, K.Hashimoto, S.Uchida, C.Yamanaka, T.Okuno, T.Hibino, N.Ueda, R.Matsui, Y.Tao, M.Nakai, K.Shigemori, S.Fujioka, K.Nagai, T.Norimatsu, H.Nishimura, K.Nishihara, N.Miyanaga, Y.Izawa.
英文:	T.Kawamura, A.Sunahara, K.Gamada, K.Fujima, F.Koike, H.Furukawa, T.Nishikawa, A.Sasaki, T.Kagawa, R.More, T.Kato, M.Murakami, V.Zhakhovskii, H.Tanuma, T.Fujimoto, Y.Shimada, M.Yamaura, K.Hashimoto, S.Uchida, C.Yamanaka, T.Okuno, T.Hibino, N.Ueda, R.Matsui, Y.Tao, M.Nakai, K.Shigemori, S.Fujioka, K.Nagai, T.Norimatsu, H.Nishimura, K.Nishihara, N.Miyanaga, Y.Izawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceedings of SPIE, Emerging Lithographic Technologies VIII

巻, 号, ページ

Vol. 5374 pp. 918-925

出版年月

2004年5月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SPIE, Microlithography, Santa Clara, California, USA, February 22-27, 2004.

開催地

和文:
英文:	Santa Clara, California, USA, February 22-27, 2004.

DOI