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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A New Photoresist Materials for 157 nm Lithography-3: Poly[2-hydroxy-3-pianyl vinyl sulfonate-co-4-(1 1 1 3 3 3-hexafluoro-2-Hydroxypropyl)styrene 
著者
和文: 芝崎祐二.  
英文: Yuji Shibasaki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:J. Photopolym. Sci & Technol. 
巻, 号, ページ Vol. 16        pp. 601
出版年月 2003年 
出版者
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会議名称
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開催地
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