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タイトル
和文: 
英文:New Photoresist Materials for 157 nm Lithography. Poly[Vinylsulfonyl Fluoride-co-4(1 1 1 3 3 3-hexafluoro-2-hydroxypropyl)styrene Partially Protected with tert-Butoxycarbonyl 
著者
和文: 芝崎祐二.  
英文: Yuji Shibasaki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Chem.Mater. 
巻, 号, ページ Vol. 15        pp. 1512
出版年月 2003年 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 

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