Epitaxy of Deposit Al and Cu Films on Si Substrates

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Epitaxy of Deposit Al and Cu Films on Si Substrates

著者

和文:	藤居俊之, Hideo Niwa, 加藤雅治.
英文:	TOSHIYUKI FUJII, Hideo Niwa, Masaharu kato.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceedings of 8th Japan Institute of Metals International Symposium, Interface Science and materials Interconnection, Tateyama, The Japan Institute of Metals

巻, 号, ページ

pp. 307-310

出版年月

1996年7月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	8th Japan Institute of Metals International Symposium
英文:

開催地

和文:
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