高分子ゲルの膨潤に及ぼすイオン効果－ホフマイスター順列の解明と新しい親・疎水性の概念 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	高分子ゲルの膨潤に及ぼすイオン効果－ホフマイスター順列の解明と新しい親・疎水性の概念
英文:

著者

和文:	許零, 岩田和憲, 山地俊則, 森正人, 佐藤満.
英文:	許零, 岩田和憲, 山地俊則, 森正人, 佐藤満.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	高分子学会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 55 No. 2 pp. 3649

出版年月

2006年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第５５回高分子討論会
英文:

開催地

和文:	富山
英文:

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