Gate Dielectric Formation and MIS Interface Characterization on Ge

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Gate Dielectric Formation and MIS Interface Characterization on Ge

著者

和文:	S.Takagi, T.Maeda, N.Taoka, M.Nishizawa, Y.Morita, K.Ikeda, Y.Yamashita, M.Nishikawa, H.Kumagai, R.Nakane, 菅原聡, N.Sugiyama.
英文:	S.Takagi, T.Maeda, N.Taoka, M.Nishizawa, Y.Morita, K.Ikeda, Y.Yamashita, M.Nishikawa, H.Kumagai, R.Nakane, S.Sugahara, N.Sugiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Microelectronic Engineering

巻, 号, ページ

Vol. 84 No. 9-10 pp. 2314-2319

出版年月

2007年9月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI