Modeling of LPP EUV Light Source at Japan MEXT Leading Project

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Modeling of LPP EUV Light Source at Japan MEXT Leading Project

著者

和文:	K.Nishihara, K.Fujima, H.Hurukawa, K.Gamada, T.Kagawa, Y-G.Kang, T.Kato, 河村徹, F.Koike, R.More, M.Murakami, T.Nishikawa, A.Sasaki, A.Sunahara, H.Tanuma, V.Zhakhovskii, H.Nishimura, Y.Shimada, S.Uchida, S.Fujioka, N.Miyanaga, Y.Izawa.
英文:	K.Nishihara, K.Fujima, H.Hurukawa, K.Gamada, T.Kagawa, Y-G.Kang, T.Kato, T.Kawamura, F.Koike, R.More, M.Murakami, T.Nishikawa, A.Sasaki, A.Sunahara, H.Tanuma, V.Zhakhovskii, H.Nishimura, Y.Shimada, S.Uchida, S.Fujioka, N.Miyanaga, Y.Izawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	3rd International Extreme UltraViolet Lithography Symposium, Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.

巻, 号, ページ

Vol. http://www.sematech.org/

出版年月

2004年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	3rd International Extreme UltraViolet Lithography Symposium, Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.

開催地

和文:
英文:	Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.