Emissivity and Opacity of Xe and Sn Based on a Detailed Atomic Model

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Emissivity and Opacity of Xe and Sn Based on a Detailed Atomic Model

著者

和文:	A.Sasaki, K.Nishihara, A.Sunahara, K.Gamada, T.Nishikawa, K.Fujima, T.Kawamura, F.Koike, T.Kagawa, R.More, T.Kato.
英文:	A.Sasaki, K.Nishihara, A.Sunahara, K.Gamada, T.Nishikawa, K.Fujima, T.Kawamura, F.Koike, T.Kagawa, R.More, T.Kato.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	3rd International Extreme UltraViolet Lithography Symposium, Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.

巻, 号, ページ

Vol. http://www.sematech.org/

出版年月

2004年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	3rd International Extreme UltraViolet Lithography Symposium, Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.

開催地

和文:
英文:	Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.