ECR Ar/N<sub>2</sub> Plasma Nitridation of HfO<sub>2</sub> for High-k Gate Insulator Applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	ECR Ar/N₂ Plasma Nitridation of HfO₂ for High-k Gate Insulator Applications

著者

和文:	Shun-ichiro Ohmi, Tomoki Kurose, Masaki Satoh, Takafumi Uchikawa.
英文:	Shun-ichiro Ohmi, Tomoki Kurose, Masaki Satoh, Takafumi Uchikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices, Ext. Abst.

巻, 号, ページ

pp. 7-10

出版年月

2005年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Soeul National University