MBE法によるSi基板上beta-FeSi2薄膜の作製と電気特性の評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	MBE法によるSi基板上beta-FeSi2薄膜の作製と電気特性の評価
英文:	Preparation of beta-FeSi2 thin film on Si substrate using MBE method and its electrical property

著者

和文:	掛本博文, 樋口透*, 和田智志, 鶴見敬章.
英文:	H.Kakemoto, T.Higuchi, S.Wada, T.Tsurumi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2006年（平成18年）春季第53回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 1

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	2006年（平成18年）春季第53回応用物理学関係連合講演会
英文:

開催地

和文:	武蔵工業大学
英文: