Doping Effects from Neutral B<sub>2</sub>H<sub>6</sub> Gas Phase on Plasma Pretreated Si Substrates as a Possible Process in Plasma Doping

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Doping Effects from Neutral B₂H₆ Gas Phase on Plasma Pretreated Si Substrates as a Possible Process in Plasma Doping

著者

和文:	Kazuo Tsutsui, Ryota Higaki, Yuichiro Sasaki, Takahisa Sato, Hideki Tamura, Katsumi Okashita, Bunji Mizuno, Hiroshi Iwai.
英文:	Kazuo Tsutsui, Ryota Higaki, Yuichiro Sasaki, Takahisa Sato, Hideki Tamura, Katsumi Okashita, Bunji Mizuno, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 44 No. 6A pp. 3903-3907

出版年月

2005年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: