English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京工業大学
東京工業大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Properties of Nanocrystalline 3C-SiC:H and SiC:Ge:H Films Deposited at Low Substrate Temperatures (invited)
著者
和文:
宮島 晋介
, Akira Yamada, Makoto Konagai.
英文:
Shinsuke Miyajima
, Akira Yamada, Makoto Konagai.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 910
巻, 号, ページ
Vol. 910 pp. 0910-A04-01
出版年月
2006年4月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
2006 MRS spring meeting, April 17 – 21 2006, (Invited, Symposium A, SESSION A4: Growth Techniques and Interface Studies, A4.1)
開催地
和文:
英文:
Moscone West, San Francisco Marriott, San Francisco, CA, USA
©2007
Tokyo Institute of Technology All rights reserved.