Growth of Hafnium Oxide Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Oxygen-Free Hf[N(C2H5)2]4 Precursor and Their Properties

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of Hafnium Oxide Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Oxygen-Free Hf[N(C2H5)2]4 Precursor and Their Properties

著者

和文:	高橋健二, 中山誠, 日野史郎, 徳光永輔, 舟窪浩.
英文:	Kenji Takahashi, Makoto Nakayama, Shiro Hino, Eisuke Tokumitsu, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Integrated Ferroelectrics

巻, 号, ページ

vol. 57 pp. 1185-1192

出版年月

2003年3月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI