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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Growth of Hafnium Oxide Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Oxygen-Free Hf[N(C2H5)2]4 Precursor and Their Properties
著者
和文:
高橋 健二
,
中山 誠
,
日野 史郎
,
徳光 永輔
,
舟窪 浩
.
英文:
Kenji Takahashi
,
Makoto Nakayama
,
Shiro Hino
,
Eisuke Tokumitsu
,
Hiroshi Funakubo
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Integrated Ferroelectrics
巻, 号, ページ
vol. 57 pp. 1185-1192
出版年月
2003年3月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
DOI
https://doi.org/10.1080/714040774
©2007
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