Texture Etching of Si with Atomic Hydrogen Generated by Hot Wire Method through SiO2 Masks for Solar Cell Applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Texture Etching of Si with Atomic Hydrogen Generated by Hot Wire Method through SiO2 Masks for Solar Cell Applications

著者

和文:	佐藤剛彦, 杉浦勉, Michio Ohtsubo, Shigeru Matsuno, 小長井誠.
英文:	Takehiko Sato, Tsutomu Sugiura, Michio Ohtsubo, Shigeru Matsuno, Makoto Konagai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 46 No. 10A pp. 6796-6800:(H03,K10)

出版年月

2007年10月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI