Discharge Produced Plasma EUV Light Source for Microlithography and Capillary Discharge SXR Laser

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Discharge Produced Plasma EUV Light Source for Microlithography and Capillary Discharge SXR Laser

著者

和文:	堀田栄喜, 酒井雄祐, 岸望, 渡邊正人, 沖野晃俊, 河村徹, MASNAVI MAJID, 堀岡一彦.
英文:	Eiki Hotta, Yusuke Sakai, Nozomu Kishi, Masato Watanabe, Akitoshi Okino, Tohru Kawamura, Majid Masnavi, Kazuhiko Horioka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ASOMT 2008

巻, 号, ページ

p. 21

出版年月

2008年1月

出版者

和文:
英文:	Harbin Chapter of EDS, IEEE

会議名称

和文:
英文:	2008 Academic Symposium on Optoelectronics & Microelectronics Technology

開催地

和文:
英文:	Harbin, China

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