ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討
英文:

著者

和文:	仲野雄介, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.
英文:	Yusuke Nakano, 佐藤雅樹, Shun-ichiro OHMI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 245 pp. 19-22

出版年月

2007年10月

出版者

和文:	電子情報通信学会
英文:

会議名称

和文:	電子情報通信学会SDM研究会
英文:

開催地

和文:	東北大学
英文:

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