HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfOxNyのPDAプロセスの検討 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfOxNyのPDAプロセスの検討
英文:

著者

和文:	大見俊一郎.
英文:	Shun-ichiro OHMI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2007 日本特別報告会 Conf. Proc.
英文:

巻, 号, ページ

pp. 25-33

出版年月

2007年11月

出版者

和文:	ISSM日本事務局
英文:

会議名称

和文:	International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2007 日本特別報告会
英文:

開催地

和文:	ベルサーレ九段
英文:

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