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論文・著書情報


タイトル
和文:RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成 
英文: 
著者
和文: 須田雄一郎, 野武幸輝, 高峻, 佐野貴洋, 大見俊一郎.  
英文: Yuichiro Suda, kouki notake, shun koh, Takahiro Sano, Shun-ichiro OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 2    p. 881
出版年月 2008年3月 
出版者
和文:応用物理学会 
英文: 
会議名称
和文:第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 
英文: 
開催地
和文:日大船橋 
英文: 

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