Loss Reduction of SiWireWaveguide on SOI Substrate Prepared by Parallel Plate RIE using Double Layered Resist Mask with C60

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Loss Reduction of SiWireWaveguide on SOI Substrate Prepared by Parallel Plate RIE using Double Layered Resist Mask with C60

著者

和文:	井上敬太, Dhanorm Plumuwongrot, 西山伸彦, 阪本真一, 榎本晴基, 田村茂雄, 丸山武男, 荒井滋久.
英文:	Keita Inoue, Dhanorm Plumuwongrot, Nobuhiko Nishiyama, Shinichi Sakamoto, Haruki Enomoto, Shigeo Tamura, Takeo Maruyama, Shigehisa Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	IEEE NMDC2008

巻, 号, ページ

出版年月

2008年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The IEEE Nanotechnology Materials and Devices Conference 2008

開催地

和文:
英文:	Kyoto University, Kyoto, Japan

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