Degradation of High-K La2O3 Gate Dielectrics Using Progressive Electrical Stress

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Degradation of High-K La2O3 Gate Dielectrics Using Progressive Electrical Stress

著者

和文:	Miranda Enrique, 岩井洋, モリナレイエスホエル, 金容湜.
英文:	Miranda Enrique, HIROSHI IWAI, Molina Reyes Joel, Y Kim.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Microelectronics Reliability

巻, 号, ページ

No. 45 pp. 1365-1369,

出版年月

2005年5月

出版者

和文:
英文:	Science Direct

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI