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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:High Index Resist for 193 nm Immersion Lithography 
著者
和文: 松本 和也, E. A. Costner, I. Nishimura, 上田 充, C. G. Wilson.  
英文: K. Matsumoto, E. A. Costner, I. Nishimura, M ueda, C. G. Wilson.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Macromolecules 
巻, 号, ページ Vol. 41        pp. 5674-5680
出版年月 2008年 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1021/ma800295s

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