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論文・著書情報


タイトル
和文:不純物偏析技術を用いたCo2FeSiソース/ドレインMOSFETの作製と評価 
英文: 
著者
和文: 高村陽太, 中根了昌, 周藤悠介, 菅原聡.  
英文: Y. Takamura, R. Nakane, Y. Shuto, S. Sugahara.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ 1p-TB-9       
出版年月 2009年3月30日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第56回応用物理学関連連合講演会 
英文: 
開催地
和文:茨城県つくば市 
英文: 
公式リンク https://www.jsap.or.jp/archives/jsap-meeting/program2009s/index.html
 

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