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論文・著書情報


タイトル
和文:光電子分光によるSi中Asの活性化状態の深さ方向分布評価 
英文: 
著者
和文: 中川恭成, 野平博司, 酒井一憲, 横田 知之, 甲斐 隆行, 金成国, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 水野文二, 服部健雄, 筒井一生, 岩井洋.  
英文: Yasumasa Nakagawa, Hiroshi Nohira, Kazunori Sakai, Kazuyuki Yokota, Takayuki Kai, Chengguo Jin, Ahmet Parhat, Kuniyuki KAKUSHIMA, Bunji Mizuno, takeo hattori, KAZUO TSUTSUI, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:応用物理学会 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 2    pp. 738
出版年月 2008年9月 
出版者
和文:応用物理学会 
英文: 
会議名称
和文:秋季第69回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:中部大学 
英文: 

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