Electrical Characterization of W/HfO2 MOSFETs with La2O3 Incorporation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Electrical Characterization of W/HfO2 MOSFETs with La2O3 Incorporation

著者

和文:	藤澤宏樹, A Srivastava, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 杉井信之, 服部健雄, C.K. Sarkar, 岩井洋.
英文:	Hiroki Fujisawa, A Srivastava, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, Nobuyuki Sugii, takeo hattori, C.K. Sarkar, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ISTC /CSTIC2009

巻, 号, ページ

pp. 53

出版年月

2009年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	ISTC /CSTIC2009

開催地

和文:
英文:	Shanghai,China