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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Activated Boron and its Concentration Profiles in Heavily Doped Si Studied by Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy and Hall Measurements
著者
和文:
筒井一生
,
T Matsuda
,
M Watanabe
,
Cheng-Guo Jin
,
佐々木雄一朗
,
水野文二
,
E Ikenaga
,
角嶋邦之
,
パールハットアヘメト
,
T Maruizumi
,
野平博司
,
服部健雄
,
岩井洋
.
英文:
KAZUO TSUTSUI
,
T Matsuda
,
M Watanabe
,
Cheng-Guo Jin
,
佐々木雄一朗
,
Bunji Mizuno
,
E Ikenaga
,
Kuniyuki KAKUSHIMA
,
Ahmet Parhat
,
T Maruizumi
,
Hiroshi Nohira
,
takeo hattori
,
HIROSHI IWAI
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Journal of Applied Physics
巻, 号, ページ
Vol. 104 093709
出版年月
2008年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
DOI
https://doi.org/10.1063/1.3014033
©2007
Tokyo Institute of Technology All rights reserved.