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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Analysis of irregular increase in sheet resistance of Ni silicides on transition from NiSi to NiSi2
著者
和文:
筒井一生
,
Ruifei Xiang
,
K. Nagahiro
,
T. Shiozawa
,
パールハットアヘメト
,
Y. Okuno
,
M. Matsumoto
,
M. Kubota
,
角嶋邦之
,
岩井洋
.
英文:
KAZUO TSUTSUI
,
Ruifei Xiang
,
K. Nagahiro
,
T. Shiozawa
,
Ahmet Parhat
,
Y. Okuno
,
M. Matsumoto
,
M. Kubota
,
Kuniyuki KAKUSHIMA
,
HIROSHI IWAI
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Microelectronic Engineering
巻, 号, ページ
Vol. 85 pp. 315-319
出版年月
2008年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
DOI
https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.07.002
©2007
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