Evaluation and Control of Residual Stress in Epitaxial Fluorite-Type-Oxide Thin Films Deposited on Si Substrates by PLD

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Evaluation and Control of Residual Stress in Epitaxial Fluorite-Type-Oxide Thin Films Deposited on Si Substrates by PLD

著者

和文:	村上晃浩, 高鉉龍, 脇谷尚樹, 木口賢紀, JEFFREYSCOTT.CROSS, 櫻井修, 篠崎和夫.
英文:	A. Murakami, H.-Y. Go, N. Wakiya, T. Kiguchi, Jeffrey Cross, O. Sakurai, K. Shinozaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 3rd International Conference on Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC3).

巻, 号, ページ

No. 16pP045

出版年月

2009年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 3rd International Conference on Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC3).

開催地

和文:
英文:	Yokohama, Kanagawa, Japan