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論文・著書情報


タイトル
和文:PLD 法で製膜した蛍石型酸化物の残留応力の測定と制御 
英文:Evaluation and Control of Residual Stress in Fluorite-Type-Oxide Thin Films Deposited by PLD 
著者
和文: 村上晃浩, 高 鉉龍, 脇谷尚樹, 木口賢紀, Cross Jeffrey, 櫻井 修, 篠崎和夫.  
英文: A. Murakami, H-Y. Go, N. Wakiya, T. Kiguchi, Cross Jeffrey, O. Sakurai, K. Shinozaki.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第22回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム講演予稿集 
英文:22nd Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan 
巻, 号, ページ     No. 1PE03    pp. 136
出版年月 2009年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第22回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム 
英文:22nd Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan 
開催地
和文:愛媛大学,愛媛 
英文: 
アブストラクト In-plane and out-of-plane lattice parameters of epitaxial yttria-stabilized zirconia (YSZ) thin films deposited on (001)Si substrates by pulsed laser deposition (PLD) were determined by XRD reciprocal-space-mapping method. Residual stress was calculated by these lattice parameters and controlled by the annealing at the various temperatures. Deposited YSZ films showed the compressive stress along with the substrates. By the annealing, the residual stress of the films gradually changed to tensile.

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