Heガスを用いた磁界圧着形マグネトロンスパッタ法によるa-Si薄膜の作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	Heガスを用いた磁界圧着形マグネトロンスパッタ法によるa-Si薄膜の作製
英文:

著者

和文:	中川茂樹.
英文:	SHIGEKI NAKAGAWA.

種別

種別:	学位論文(修士)
国名:

言語

学位授与組織

金沢大学

報告番号

学位授与日

1985/--/--

審査員

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