English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Annealing Reaction for Ni Silicidation of Si Nanowire
著者
和文:
新井英朗
,
上村英之
,
佐藤創志
,
角嶋邦之
,
パールハットアヘメト
,
西山彰
,
筒井一生
,
杉井信之
,
名取研二
,
服部健雄
,
岩井洋
.
英文:
Hideaki Arai
,
Hideyuki Kamimura
,
Soshi Sato
,
Kuniyuki KAKUSHIMA
,
Ahmet Parhat
,
西山彰
,
KAZUO TSUTSUI
,
Nobuyuki Sugii
,
KENJI NATORI
,
takeo hattori
,
HIROSHI IWAI
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2009年10月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
G-COE PICE International Symposium on Silicon Nano Devices
開催地
和文:
英文:
Tokyo Institute of Technology, Japan
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.