Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A Study of Schottky Barrier Height Modulation of NiSi by Interlayer Insertion and Its Application to SOI SB-MOSFETs 
著者
和文: 細田亘, 小澤健児, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: Wataru Hosoda, Kenji Ozawa, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2009年10月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:G-COE PICE International Symposium on Silicon Nano Devices 
開催地
和文: 
英文:Tokyo Institute of Technology, Japan 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.