Xe-based Z-pinch Discharge Produced Plasma (DPP) EUV Source for Lithograph

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Xe-based Z-pinch Discharge Produced Plasma (DPP) EUV Source for Lithograph

著者

和文:	Huang Bin, 滝本泰大, 渡邊正人, 堀田栄喜.
英文:	Bin Huang, Yasuhiro Takimoto, Masato watanabe, Eiki Hotta.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The papers of Technical Meeting on Pulsed Power Technology

巻, 号, ページ

PPT-10-23 pp. 15-18

出版年月

2010年2月

出版者

和文:
英文:	IEE Japan

会議名称

和文:
英文:	Technical Meeting on Pulsed Power Technology

開催地

和文:
英文:	Tokyo