Device characteristics improvement of a-In–Ga–Zn–O TFTs by low-temperature annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Device characteristics improvement of a-In–Ga–Zn–O TFTs by low-temperature annealing

著者

和文:	菊地優友, Kenji Nomura, 柳博, 神谷利夫, 平野正浩, 細野秀雄.
英文:	Yutomo Kikuchi, Kenji Nomura, Hiroshi Yanagi, Toshio Kamiya, Masahiro Hirano, Hideo Hosono.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Thin Solid Films

巻, 号, ページ

vol. 518 pp. 3017-3021

出版年月

2010年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI