Homoepitaxial step-flow growth of β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>  thin films by molecular beam epitaxy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Homoepitaxial step-flow growth of β-Ga₂O₃ thin films by molecular beam epitaxy

著者

和文:	大島孝仁, 新井直樹, 大平重男, 藤田静雄.
英文:	Takayoshi Oshima, Naoki Arai, Shigeo Ohira, Shizuo Fujita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

PII-20

出版年月

2007年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	14th International Workshop on Oxide Electronics

開催地

和文:
英文:	Jeju, Korea