分子線エピタキシー法によるβ-Al<sub>2r</sub>Ga<sub>2-2r</sub>O<sub>3</sub>薄膜の作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	分子線エピタキシー法によるβ-Al_2rGa_2-2rO₃薄膜の作製
英文:

著者

和文:	大島孝仁, 奥野剛也, 新井直樹, 小林恭, 藤田静雄.
英文:	Takayoshi Oshima, Takeya Okuno, Naoki Arai, Yasushi Kobayashi, Shizuo Fujita.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

31p-ZK-17

出版年月

2009年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	2009年春季第56回応用物理学関連連合講演会
英文:

開催地

和文:	筑波大学
英文:

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