【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて English

Home > ヘルプ 論文・著書情報 タイトル 和文:   英文: Vacancy-Type Defects in Ultra-Shallow Junctions Fabricated Using Plasma Doping Studied by Positron Annihilation  著者 和文: Akira Uedono, 筒井一生, Shoji Ishibashi, Hiromichi Watanabe, Shoji Kubota, Kazuki Tenjinbayashi, 中川恭成, 水野文二, 服部健雄, 岩井洋.   英文: Akira Uedono, KAZUO TSUTSUI, Shoji Ishibashi, Hiromichi Watanabe, Shoji Kubota, Kazuki Tenjinbayashi, Yasumasa Nakagawa, Bunji Mizuno, takeo hattori, HIROSHI IWAI.   言語 English  掲載誌/書名 和文:   英文:   巻, 号, ページ         出版年月 2010年5月  出版者 和文:   英文:   会議名称 和文:   英文: IEEE IWJT 2010 Extended Abstracts 2010 International Workshop on Junction Technology  開催地 和文:   英文: Shanghai, China

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