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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Hall and field-effect mobilities of electrons accumulated at a lattice-matched ZnO/ScAIMgO4 heterointerface 
著者
和文: 鈴木 崇雄, 大友 明, 塚崎 敦, 佐藤 二美, 西井 潤弥, 大野 英男, 川崎 雅司.  
英文: T. I. Suzuki, A. Ohtomo, A. Tsukazaki, F. Sato, J. Nishii, H. Ohno, M. Kawasaki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Advanced Materials 
巻, 号, ページ Vol. 16    No. 21    pp. 1887-1890
出版年月 2004年11月 
出版者
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会議名称
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開催地
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公式リンク <Go to ISI>://000225848000003
 
DOI https://doi.org/10.1002/adma.200401018
アブストラクト At a lattice-matched ZnO/ScAIMgO(4) heterointerface, Hall and field-effect mobilities of grain-boundary-free ZnO channels have been simultaneously characterized under a gate electric field (E-G) applied through a ScAIMGO(4) dielectric gate. The field-effect mobility increased linearly with increasing EG (see Figure), clearly in contrast to the supralinear (exponential) dependence that has been previously reported for polycrystalline channels.

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