Xe-based Z-pinch gas jet type DPP EUV source for lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:	Xeガスジェット型Zピンチプラズマを用いた半導体リソグラフィ用EUV光源に関する研究
英文:	Xe-based Z-pinch gas jet type DPP EUV source for lithography

著者

和文:	黄斌, 滝本泰大, 渡邊正人, 堀田栄喜.
英文:	Bin Huang, Yasuhiro Takimoto, Masato Watanabe, Eiki Hotta.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	電気学会研究会資料プラズマ・パルスパワー合同研究会
英文:	The Papaers of Joint Technical Meeting on Plasma Science and Pulsed Power Technology

巻, 号, ページ

PST-10-034, PPT-10-055

出版年月

2010年8月

出版者

和文:	電気学会
英文:	IEEJ

会議名称

和文:	プラズマ・パルスパワー合同研究会
英文:	Joint Technical Meeting on Plasma Science and Pulsed Power Technology

開催地

和文:	ホノルル
英文:	Honolulu, Hawaii, USA