Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:LaCe シリケート膜を用いたEOT<0.7nm の直接接合 high-k/Si の実現とフラットバンド電圧制御 
英文: 
著者
和文: 角嶋邦之, 小柳友常, 来山大祐, 幸田みゆき, 宋在烈, 佐藤創志, 川那子高暢, M. マイマイティ, 舘喜一, M.K. Bera, パールハットアヘメト, 野平博司, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 山田啓作, 岩井洋.  
英文: Kuniyuki KAKUSHIMA, Tomotsune Koyanagi, 来山大祐, Miyuki Kouda, Jaeyeol Song, Soshi Sato, Takamasa Kawanago, M. マイマイティ, Kiichi Tachi, M.K. Bera, Ahmet Parhat, Hiroshi Nohira, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, Keisaku Yamada, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文:，野平博司，筒井一生，西山彰，杉井信之，名取研二，服部健雄，山田啓作，岩井洋“LaCe シリケート膜を用いたEOT<0.7nm の直接接合 high-k/Si の実現とフラットバンド電圧制御” 応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー No.127 pp.4-8（2010年7月22日 ） 
巻, 号, ページ     No. 127    pp. 4-8
出版年月 2010年7月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー 
英文: 
開催地
和文:つくば市，産業技術総合研究所 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.