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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Suppression of Lateral Encroachment of Ni Silicide into Si Nanowires using Nitrogen Incorporation 
著者
和文: 茂森直登, 佐藤創志, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: Naoto Shigemori, Soshi Sato, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年10月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:tECS 218th Meeting 
開催地
和文: 
英文:Las Vegas, USA 

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