Roughness Reduction Technique for High Performance Poly-Si TFTs by CW Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Roughness Reduction Technique for High Performance Poly-Si TFTs by CW Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films

著者

和文:	藤井俊太朗, 黒木伸一郎, 沼田雅之, 小谷光司, 伊藤隆司.
英文:	S. Fujii, S. Kuroki, M. Numata, K. Kotani, T. Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Extended Abstracts of the 2008 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2008)

巻, 号, ページ

pp. 144-145

出版年月

2008年9月

出版者

和文:
英文:	2008 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2008)

会議名称

和文:
英文:	2008 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2008)

開催地

和文:
英文:	Ibaraki, Japan