Xe-based Gas Jet Type Z-pinch Discharge Produced Plasma (DPP) EUV Source for Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Xe-based Gas Jet Type Z-pinch Discharge Produced Plasma (DPP) EUV Source for Lithography

著者

和文:	Huang Bin, 滝本泰大, 渡邊正人, 堀田栄喜.
英文:	B. Huang, Y. Takimoto, M. Watanabe, E. Hotta.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

12D-11-1

出版年月

2010年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference

開催地

和文:
英文:	Fukuoka, Japan