Low-CTE photosensitive polyimide based on semialicyclic poly(amic acid) and photobase generator.

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-CTE photosensitive polyimide based on semialicyclic poly(amic acid) and photobase generator.

著者

和文:	小倉知士, 東原知哉, 上田充.
英文:	Tomohito Ogura, tomoya higashihara, mitsuru ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Polym. Sci. Part-A, Polym. Chem.

巻, 号, ページ

Vol. 48 pp. 1317-1323

出版年月

2010年4月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: