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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Pattern formation of polyimide by using photosensitive polybenzoxazole as a top layer 
著者
和文: 小倉知士, 東原知哉, 上田充.  
英文: Tomohito Ogura, tomoya higashihara, mitsuru ueda.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:European Polymer Journal 
巻, 号, ページ Vol. 46    No. 7    pp. 1576-1581
出版年月 2010年8月4日 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1016/j.eurpolymj.2010.04.004

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