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論文・著書情報


タイトル
和文:酸化膜被覆型SiナノワイヤおよびSi Fin構造におけるNiシリサイド成長機構の検討 
英文: 
著者
和文: 松本一輝, 小山将央, 呉研, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: Kazuki Matsumoto, 小山将央, Y. Wu, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2011年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第72回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:山形県 
英文: 

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