Si based High-index-contrast-grating Structure fabricated by High Temperature Cl2 Inductively Coupled Plasma Etching using Thermal Nanoimprint Resist Mask

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Si based High-index-contrast-grating Structure fabricated by High Temperature Cl2 Inductively Coupled Plasma Etching using Thermal Nanoimprint Resist Mask

著者

和文:	松谷晃宏, 橋爪佑樹, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Yuuki Hashidume, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

26P-7-59

出版年月

2011年10月1日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	24th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC2011

開催地

和文:	Kyoto
英文: