Low-Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ArF Excimer Laser lrradiation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ArF Excimer Laser lrradiation

著者

和文:	杉井寿博, 伊藤隆司, 石川元.
英文:	Toshihiro Sugii, Takashi Ito, Hajime Ishikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. A No. 46 pp. 249-253

出版年月

1988年

出版者

和文:
英文:	The Japan Society of Applied Phisics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: